第1621章 从40nm到27nm的跨越[2/2页]

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    件对于加工精度的要求非常苛刻。”
    nbsp张汝宁进一步介绍道：
    nbsp“而在更新的1800物镜组里面，大部分功能被集成在少数几片核心镜片上，独立光学元件的数量缩减到14个，所以体积比老型号小了一半以上……”
    nbsp“……”
    nbsp就在这时，一直坐在控制电脑前的何修军突然站了起来。
    nbsp“张组长，最新一组测试数据已经处理完成！”
    nbsp他走到张汝宁同时也是走到栾文杰身边，汇报道：
    nbsp“193nm波长下，1800物镜组的等效数值孔径（NA）实测最大值为最小值为一致性达到该数值远优于我们设计指标要求的也完全符合设计方案中理论NA值1.80的预期……”
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    nbsp“全视场振幅极化量RMS（均方根值）实测最大最小
    nbsp“全视场相位延迟量RMS实测最大最小
    nbsp实际上，这里面的多数参数都是之前就已经测完的，而且往常也不需要他专门汇报一遍。
    nbsp报告导出来，大家分别翻阅就行了。
    nbsp但此刻面对亲临一线的栾文杰，这份详尽到几乎冗余的数据汇报，就显得格外“恰到好处”且分量十足。
    nbsp“等等。”
    nbsp果然，栾文杰打断了后续的参数报告。
    nbsp他既然是专程来考察光刻机，那对于这些基本参数自然有所了解。
    nbsp虽然被一大堆突然涌入的数据搞得有些头脑发胀，但还是敏锐地捕捉到了其中最关键的部分。
    nbspNA值
    nbsp“我记得之前提交上去的那份评估报告里，最高规格的数值孔径预估是
    nbsp面对这个问题，张汝宁脸上露出一丝茫然。
    nbsp他并不清楚有个什么评估报告的事情。
    nbsp常浩南则立刻接过话头解释道：
    nbsp“栾主任，那份报告里使用的1.70数值，值是我们在进行不同技术路线横向比较时设定的……嗯……参照基准，当时为了公平对比，说明镥铝石榴石体系的优势，我设定的前提是其他所有条件，比如光源、视场、机械平台等都保持一致。”
    nbsp“但在实际设计过程中，因为物镜组的整体结构变得简单了很多，所以这套系统的底镜有效视场比之前的1500物镜组拓宽了大约15%……换句话说，在相同NA值要求下，光线通过物镜边缘区域的入射角度可以更小，这极大地减轻了设计超高NA系统时最难克服的边缘像差压力……”
    nbsp“……”
    nbsp“总之，”他最后总结道：“这0.1的额外提升，是设计自由度增加带来的实际工程红利，也是新方案综合优越性的直接体现。”
    nbsp栾文杰未必完全听懂了他的长篇大论，但眼前的结果显然令他心情大好：
    nbsp“所以常院士，刚才你提到华芯国际能以MPP工艺大批量生产新一代的7nm芯片，关键就在于这个1.80的NA值？”
    nbsp常浩南点头：“正是。”
    nbsp接着，又从旁边拿过一张表格递给对方：
    nbsp“1.80的数值孔径，相当于我们把193nmDUV光源的等效波长压缩到了对比NA值1.35的老体系，相当于把特征尺寸的理论极限从40nm一举推进到27nm左右！”
    nbsp栾文杰的视线表格上飞速移动，最终找到了27nm对应的节点尺寸——
    nbsp三星的5nm，或TSMC的7nm++，或英特尔的10nm。
    nbsp总之，已经是目前最强的一档。
    nbsp是过去一般认为，只有EUV光刻机才能够涉足的领域。
    nbsp看到对方的视线已经不再移动，常浩南终于给出了阶段性的结论：
    nbsp“这个能力，足以覆盖当前TSMC、三星等厂商定义的7nm，乃至未来35年内可能出现的更先进节点的全部生产需求！而且，都是依靠单次曝光工艺就能稳定实现的。”
    nbsp“更重要的是，ArF1800光刻机的主体架构，除了这个革命性的物镜组以外，其余光源系统、精密工件台、掩模台以及对准器等核心子系统，都沿用了ArF1500平台上的成熟设计，最大程度地保证了设备的可靠性用户的转产速度。”
    nbsp说到这里他稍作停顿，让栾文杰有些缓冲的时间。
    nbsp之后，又掷地有声地强调：
    nbsp“这意味着，一旦设备交付，华芯国际能够在最短时间内完成产线切换和产能爬坡，无需漫长的调试和适应期，供应链的每一个环节，从材料、设计到制造，都牢牢掌握在我们自己手中，稳定、安全、可控！”
    喜欢。

第1621章 从40nm到27nm的跨越[2/2页]

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